簡單描述:真空燒結(jié)爐廣泛應用于半導體、冶金及其它行業(yè)的熱處理、真空工藝處理詳細介紹:★工作溫度:400-1200oC★單點溫度控制精度:≤±1oC/24h★等溫區(qū)長度:200-400mm/±1mm★升溫功率:3-6KVA★升溫時間:(至1200℃)<750min
2016-09-24 電議/臺
主要用于熔化焊錫來進行電子器件的生產(chǎn)以及二較管模塊燒結(jié)等工藝操作。主要技術(shù)指標:&diams方式:井式、銅板加熱,加熱面積直徑380mm見方.&diams較高溫度:600℃&diams工作溫度:500℃以內(nèi)。&diams控溫精度:±2℃&diams有效工
2016-09-24 電議/臺
功能特點:擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、及大規(guī)模集成電路制造等領域?qū)M行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,可用于28英寸工藝尺寸。★全中文windows操作界面,可編輯參數(shù),操作方便。★可保存多條工藝曲線,每條曲線可設置多步。★工藝曲線的自動運行控制功
2016-09-24 電議/臺