產品說明:
擴散爐主要滿足半導體電力電子器件行業(yè)、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。
主要技術指標:
★可處理硅片尺寸:2&mdash8英寸
★外型形式:臥式1&mdash4管結構
★工作溫度:200℃&mdash1300℃
★恒溫區(qū)長度及精度:200mm&mdash1100mm&le±0.5℃
★單點溫度穩(wěn)定性、重復性:&le±0.5℃/24h
★溫度斜變:可控升溫速率20℃/min,
★可控降溫速率:5℃/min
★送片裝置:全自動懸臂推拉舟、拉桿是推拉舟、手動推拉
★氣路系統(tǒng):1&mdash5路工藝氣體/管
★氣體控制:全自動MFC、手動浮子流量計
★控制方式:工控機、觸摸屏
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