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作為半導體製造設備內部的保護性塗層，半導體乾蝕設備內部暴於高反應性鹵素或氧系電漿。若非耐電漿材料元件(如，石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以
“氟化鎂(MgF2)高精度窗口片”參數說明 型號： MgF2 規(guī)格： 200 nm - 6.0 μm
99%純度氟化鋁
YWX-020（115*280*140cm）
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鄭州市恒泰氟化鹽廠
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