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作為半導體製造設(shè)備內(nèi)部的保護性塗層,半導體乾蝕設(shè)備內(nèi)部暴於高反應(yīng)性鹵素或氧系電漿。若非耐電漿材料元件(如,石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以
氟化鋁 Aluminum Fluoride 化學式:AlF3 分子量:83.98 CAS NO.:7784-18-1 物化性
請問貴司是否能做冷板的代加工?主要涉及到折彎、折彎位置鏤空挖槽、攪拌摩擦焊以及銑加工除多余量
99%純度氟化鋁
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