產品描述
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KRI 考夫曼離子源 KDC 10
上海伯東代理國外進口進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列較小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設計, 低成本等優(yōu)點廣泛應用在顯微鏡領域, 標準配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 10mA.
KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術參數(shù)
|
型號 |
KDC 10 |
|
供電 |
DC magnetic confinement |
|
- 陰極燈絲 |
1 |
|
- 陽極電壓 |
0-100V DC |
|
- 柵極直徑 |
1cm |
|
中和器 |
燈絲 |
|
電源控制 |
KSC 1202 |
|
配置 |
- |
|
- 陰極中和器 |
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 |
|
- 架構 |
移動或快速法蘭 |
|
- 高度 |
4.5 |
|
- 直徑 |
1.52 |
|
- 離子束 |
集中 |
|
-加工材料 |
金屬 |
|
-工藝氣體 |
惰性 |
|
-安裝距離 |
2-12” |
|
- 自動控制 |
控制4種氣體 |
KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域
離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE
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