上海微行爐業(yè)有限公司

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主營:真空管式爐,真空電阻爐,真空釬焊爐,鎳鈦材料真空熱處理系統(tǒng),鈦合金植入物真空熱處理爐,3D打印件真空熱處理爐

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  • 鎳鈦記憶合金真空熱處理爐
    鎳鈦記憶合金真空熱處理爐

    TF1000-200-HV-T10技術(shù)簡介產(chǎn)品用途:主要用于稀土制備、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、硬質(zhì)合金、鎳鈦記憶合金、3D打印金屬件(鈦合金TC4、23鈦等)真空熱處理、真空釬焊等。主要功能和特點(diǎn):1、爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,保溫性能好,耐

    2021-04-15 86000/臺(tái)
  • 硬質(zhì)合金真空釬焊爐
    硬質(zhì)合金真空釬焊爐

    真空釬焊爐CUT250技術(shù)參數(shù)一、設(shè)備介紹1、焊接對(duì)象:天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設(shè)備特點(diǎn):采用了光輻射的加熱方式,大幅提高加熱效率,設(shè)備小型、便捷、直觀、已操作,特別適合超硬工具的行業(yè)特點(diǎn)。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進(jìn)行加熱、冷卻

    2021-04-15 23000/臺(tái)
  • 箱式氣氛熱處理爐
    箱式氣氛熱處理爐

    氣氛爐AF1200-50參數(shù)簡介設(shè)備簡介:用途:廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù):設(shè)備型號(hào):AF1200-50爐膛尺

    2021-04-15 36300/臺(tái)
  • 真空管式爐 、高真空管式爐
    真空管式爐 、高真空管式爐

    設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬,非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專項(xiàng)使用理想設(shè)備。應(yīng)用領(lǐng)域半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、

    2021-04-15 56000/臺(tái)
  • 金剛石真空釬焊爐
    金剛石真空釬焊爐

    VF1300-422型真空爐技術(shù)參數(shù)(金屬屏)一、設(shè)備用途本設(shè)備主要應(yīng)用于金屬材料高真空熱處理。主要應(yīng)用行業(yè)與工藝:3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理;硬質(zhì)合金工具、金剛石砂輪等高真空釬焊;鈦合金植入物等材料高真空除氣。二、主要參數(shù)1、爐型結(jié)構(gòu):臥式,單室,爐體爐門采用

    2021-04-15 250000/臺(tái)
  • MCD刀片真空釬焊爐
    MCD刀片真空釬焊爐

    真空釬焊爐CUT180技術(shù)參數(shù)一、設(shè)備介紹1、焊接對(duì)象:天然金剛石、人造單晶、CVD金剛石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、設(shè)備特點(diǎn):采用了光輻射的加熱方式,大幅提高加熱效率,設(shè)備小型、便捷、直觀、已操作,特別適合超硬工具的行業(yè)特點(diǎn)。采用小型真空密封方式在真空狀態(tài)下進(jìn)行加熱、

    2021-04-15 85000/臺(tái)
  • 800度不銹鋼內(nèi)膽燒結(jié)爐 高潔凈度爐膛
    800度不銹鋼內(nèi)膽燒結(jié)爐 高潔

    設(shè)備技術(shù)參數(shù):設(shè)備型號(hào):AF1400爐膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm較限溫度:1400工作溫度:1300控溫精度:?1度爐內(nèi)溫均:?5度升溫

    2021-04-15 50000/臺(tái)
  • PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
    PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系

    TF1200-PECVD型等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)產(chǎn)品簡介:此款設(shè)備配有Plasma實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng),滑軌式設(shè)計(jì)在操作時(shí)可將實(shí)驗(yàn)需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)

    2021-04-15 50000/臺(tái)
  • 1200度氣氛保護(hù)電爐  氣氛燒結(jié)爐
    1200度氣氛保護(hù)電爐 氣氛燒

    氣氛爐AF1200-50設(shè)備簡介:用途:廣泛用于電子陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、耐火材料、新材料、粉體材料、特種材料、建材等領(lǐng)域在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行的燒結(jié)生產(chǎn)。技術(shù)參數(shù):設(shè)備型號(hào):AF1200-50爐膛尺寸:

    2021-04-15 1688/臺(tái)
  • 高溫真空熱處理爐  真空光亮爐
    高溫真空熱處理爐 真空光亮

    一、設(shè)備基本原理及主要用途1.設(shè)備用途適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的準(zhǔn)確退火與微晶化、晶體的準(zhǔn)確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理,材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行

    2021-04-15 50000/臺(tái)
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